Год: 2011

Издание: Журнал технической физики, RSCI

Тип публикации: Статьи в журналах

Название издания: Журнал технической физики

Страна, город, издательство: Россия, Санкт-Петербург, МАИК "Наука/Интерпериодика"

Выходные данные: Т. 81, № 10

Импакт-фактор издания: 0.54

Импакт-фактор издания по РИНЦ: 0.355

ISSN / ISBN: 0044-4642

Библиографическое описание: Балашев В.В., Коробцов В.В., Писаренко Т.А., Чеботкевич Л.А. Особенности формирования пленки Fe3O4 на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO2 // Журнал технической физики. Т. 81, №10, 2011. С.122-128.

Ссылки:

Файлы: