Год: 2015

Тип публикации: Статьи в журналах

Название издания: Журнал Технической Физики

Страна, город, издательство: СПИКФ «Наука», С.Петербург, РФ

Выходные данные: Т. 85, вып.10

Импакт-фактор издания по РИНЦ: 0,624

ISSN / ISBN: 0044-4642, 1063-7842 (eng)

Библиографическое описание: А.А. Алексеев, Д.А. Олянич, Т.В. Утас, В.Г. Котляр, А.В. Зотов, А.А. Саранин. СТМ-наблюдение сверхтонких эпитаксиальных пленок CoSi2(111), выращенных при высокой температуре. ЖТФ, 2015, Т. 85, вып. 10, С. 94-100.

Ссылки: