ИАПУ ДВО РАН

Феноменологические модели зарождения и роста металла на полупроводнике


2019

Физика твердого тела, RSCI

Статьи в журналах

Физика твердого тела

Россия, г. Санкт-Петербург, ФТИ им. А.Ф.Иоффе (Pleiades Publishing, Ltd)

том 61, вып. 12

0.950

1,003

0367-3294

Н.И. Плюснин, Феноменологические модели зарождения и роста металла на полупроводнике // Физика твердого тела, 2019, том 61, вып. 12, с. 2421-2424.

На основе экспериментальных данных, полученных в одинаковых экспериментальных условиях с исполь- зованием метода осаждения из горячей стенки, обнаружены и выделены четыре режима роста металла на полупроводниковой подложке. Данные режимы реализуются при определенных соотношениях между поступательной кинетической энергией пара, осаждаемого на подложку, и его температурой. Предложен механизм адаптации к подложке нанофазного смачивающего покрытия металла, когда реализуется режим роста чистого металла, и структурная модель этого покрытия.

DOI: 10.21883/FTT.2019.12.48567.07ks