Год: 2014

Автор: Вознесенский С. С., Кульчин Ю. Н., Непомнящий А. В.

Издание: Solid State Phenomena, Scopus

ISSN / ISBN: 978-3-03785-970-4

Библиографическое описание: S.S. Voznesenskiy, A.V. Nepomnyaschiy, Y.N. Kulchin. Study of chitosan biopolymer as the resist for the submicron electronic lithography. Solid State Phenomena,2014, Vol. 213, P.180-185

Страна, город, издательство: Switzerland. Zuerich: Trans Tech Publications Ltd

Импакт-фактор издания по РИНЦ:

Название издания: Solid State Phenomena

Выходные данные: Vol. 213

Импакт-фактор издания:

Тип публикации: Статьи в журналах