ИАПУ ДВО РАН

СТМ-наблюдение сверхтонких эпитаксиальных пленок CoSi2(111), выращенных при высокой температуре


2015

Статьи в журналах

Журнал Технической Физики

СПИКФ «Наука», С.Петербург, РФ

Т. 85, вып.10

0,624

0044-4642, 1063-7842 (eng)

А.А. Алексеев, Д.А. Олянич, Т.В. Утас, В.Г. Котляр, А.В. Зотов, А.А. Саранин. СТМ-наблюдение сверхтонких эпитаксиальных пленок CoSi2(111), выращенных при высокой температуре. ЖТФ, 2015, Т. 85, вып. 10, С. 94-100.

http://journals.ioffe.ru/jtf/2015/10/p94-100.pdf
DOI:10.1134/S1063784215100023