Особенности формирования пленки Fe3O4 на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO2


2011

Балашев В. В., Коробцов В. В., Писаренко Т. А., Чеботкевич Людмила Алексеевна

Статьи в журналах

Журнал технической физики

Россия, Санкт-Петербург, МАИК "Наука/Интерпериодика"

Т. 81, № 10

С. 122-128

0.54

0.355

0044-4642

Балашев В.В., Коробцов В.В., Писаренко Т.А., Чеботкевич Л.А. Особенности формирования пленки Fe3O4 на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO2 // Журнал технической физики. Т. 81, №10, 2011. С.122-128.

http://dx.doi.org/10.1134/S1063784211100033

JTP-81-11-122.pdf
TEPH_V56_N10_2011_p1501.pdf